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石英坩埚的内表面氣泡含量

2024-05-31 16:01:10
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石英坩埚的内表面氣泡含量(圖1)                

     


坩埚最内表層是指透明層中(zhōng)最靠近内表面1-2mm的部分(fēn)。圖中(zhōng)表明了在使用(yòng)過程中(zhōng),坩埚對矽液起作(zuò)用(yòng)的機理(lǐ)--由于與矽液接觸的内表面不斷向矽液中(zhōng)熔解,并且伴随着透明層中(zhōng)的微氣泡不斷的長(cháng)大,靠近最内表面的氣泡破裂,伴随着矽液釋放石英微顆粒以及微氣泡。而這些雜質(zhì)會以微顆粒以及微氣泡的形式伴随着矽液流遍整個矽熔體(tǐ),直接影響到矽的成晶(整棒率、成晶率、加熱時間、直接加工(gōng)成本)以等及單晶矽的質(zhì)量(穿孔片、黑芯片等)。

普通坩埚,使用(yòng)前内表面氣泡較多(duō),使用(yòng)中(zhōng)内表面氣泡不斷破裂,直接污染矽熔體(tǐ)、影響單晶拉制,氣泡破裂現象随着時間的增加愈加嚴重,無法滿足長(cháng)時間拉晶的需要。

石英坩埚的内表面氣泡含量(圖2)


高品質(zhì)坩埚,使用(yòng)前内表面基本無氣泡,使用(yòng)中(zhōng)内表面氣泡破裂現象極少,為(wèi)長(cháng)時間拉晶(如多(duō)次複投料)提供保障。

石英坩埚的内表面氣泡含量(圖3)

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